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Excitação de Plasma

Descrição:

A SUPPLIER oferece modelos de fontes CC que podem ser utilizados no processo de excitação de plasma. Além da possibilidade da variação de tensão e corrente a fonte FCC 1000-100I, por exemplo, possui alta potência.

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FONTE CC PULSADA
FCCP 2400-80I
Potência pulsada ±24kW
Tensão pulsada ±800V
Corrente pulsada ±30A
Detecção Arco 9A - 90A
Supressão Arco < 20 us
Frequência 25 Hz-1,5 kHz
FONTE CC PULSADA
FCCP 200-100-I15450
Potência: 2 kVA
Tensão pulsada: ±1000V
Corrente pulsada: ±2AC
Frequência Ajustável: 25-200kHz
FONTE CC PULSADA
FCCP 1000-200-I55450
Potência: 5 kW
Tensão pulsada: ±2000V
Corrente pulsada: ±2,5Acc
Frequência Ajustável: 25-200kHz
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