Excitação de Plasma

Descrição:

A SUPPLIER oferece modelos de fontes CC que podem ser utilizados no processo de excitação de plasma. Além da possibilidade da variação de tensão e corrente a fonte FCC 1000-100I, por exemplo, possui alta potência.

Produtos relacionados

FONTE CC PULSADA
FCCP 2400-80I

Potência pulsada ±24kW

Tensão pulsada ±800V

Corrente pulsada ±30A

Detecção Arco 9A - 90A

Supressão Arco < 20 us

Frequência 25 Hz-1,5 kHz

FONTE CC PULSADA
FCCP 200-100-I15450

Potência: 2 kVA

Tensão pulsada: ±1000V

Corrente pulsada: ±2AC

Frequência Ajustável: 25-200kHz

FONTE CC PULSADA
FCCP 1000-200-I55450

Potência: 5 kW

Tensão pulsada: ±2000V

Corrente pulsada: ±2,5Acc

Frequência Ajustável: 25-200kHz

FONTE CC ISOLADA
FCCT 350-100-I

Potência: 3,5 kW

Tensão Máx: 1.000V

Corrente Máx: 3,5A

Isolação em alta freqüência

Comunicação serial